Готово је: Кинези праве чипове од 5 нм без западне технологије
Кинески технолошки џин „Хуавеј“, започео је развој праве 5 нм производне линије без коришћења ЕУВ (Extreme Ultraviolet) литографских машина.
ЕУВ је технологија коју је патентирала холандска компанија АСМЛ, и која је под забраном извоза у Кину.
Према писању портала УДН, кинески технолошки гигант користи алтернативу ССА800, литографске машине компаније Схангхаи Мицро Елецтроницс, у комбинацији са техником вишеструког узорковања (multi-patterning).
Осим тога, наводи се да Хуаwеи и његов главни партнер у производњи чипова, СМИЦ, већ раде на 3 нм технологији, преноси портал Буг.
Истраживање се одвија у два смера: први користи ГАА архитектуру, какву примењују водећи светски произвођачи ТСМЦ и Самсунг, док се други фокусира на чипове засноване на карбонским наноцевима.
Подели ову вест
Комeнтар успeшно додат!
Ваш комeнтар ћe бити видљив чим га администратор одобри.
